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微型線性壓電位移臺

簡要描述:微型線性壓電位移臺憑借其超緊湊設計、納米級精度、高速度和Crossfixx™超聲波壓電驅動技術,在多個高精度運動控制領域具有優勢。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-12-08
  • 訪  問  量:242
詳細介紹
品牌昊量光電產地類別進口
應用領域綜合

Xeryon微型線性壓電位移臺的XLA系列(XLA-1/3/5/10)憑借其超緊湊設計、納米級精度、高速度和Crossfixx™超聲波壓電驅動技術,在多個高精度運動控制領域具有優勢。


XLA系列微型線性壓電位移臺核心參數-運動控制的突破


型號

行程范圍 (mm)

驅動力(N)

分辨率 (nm)

重復精度 (nm)

速度(max)(mm/s)

XLA-1

5-305

1

78/312/1250(閉環) / 20-50μm(開環)

±80(單向) / ±160(雙向)

5.5-17.5

XLA-3

10-290

3

35.8-60

XLA-5

10-290

5

XLA-10

10-285

10

54.9-85.6

環境使用要求

工作溫度-30℃~+70℃

濕度要求20%-90% RH



XLA系列核心參數


  • 大行程5-285mm

  • 分辨率78nm-1250nm

  • 重復精度80nm

  • 速度5.5mm/s-85.6mm/s



選型建議


·高精度需求:優先選擇XLA-1或XLA-3(分辨率達78nm,雙向重復精度±160nm)。

·大負載應用:選擇XLA-10(驅動力10N,保持力10N)。

·緊湊設計:XLA-1(僅5.4mm厚度)適合空間受限場。

·高速運動:開環版本均支持1000mm/s。


控制器兼容性


·所有型號均支持以下控制方式:

·Windows圖形界面

·LabVIEW/Matlab腳本

·C++/Python庫

注:閉環版本需搭配專用控制器(XD-OEM/XD-A),開環版本內置控制器。


應用場景


1. 半導體與光刻設備

·光刻機精密對準
XLA-10的高分辨率(78nm)和雙向重復精度(±160nm)適合晶圓臺的微米級定位。(如ASML光刻機中的
掩模版調整)

·晶圓檢測設備:
XLA-5的快速響應(點對點定位時間25ms)用于
自動對焦和掃描平臺。

·優勢

·無磁干擾

·耐真空兼容(可選HV版本)


2. 生命科學與醫療設備

·共聚焦顯微鏡

·微創手術機器人


3. 光學與光子學

·自適應光學系統

·激光加工設備

·技術亮點

·無振動運動(超聲波電機)
·支持LabVIEW/Python控制(快速集成)


4.工業自動化與檢測


5.科研與定制化儀器

·低溫實驗環境

·真空腔


6.新興技術領域

·AR/VR光學模組

·生物打印


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